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公司名稱：蘇州星源潔凈環(huán)境科技有限公司
會員級別：免費會員

QIII表面微粒子計數(shù)器 表面潔凈分析儀

產(chǎn)品描述

表面微粒密度驗證表面微粒子密度分析儀(表面清潔驗證)及產(chǎn)品資料
表面微粒子密度分析計數(shù)器
美國 Pentagon QIII max(0.3um) and QIII Ultra(0.1miron)
物體表面微粒子計數(shù)器產(chǎn)品目錄,對于做為表面微粒子檢測來說是必須的驗證工具且能夠使貴公司的客戶認(rèn)可.
供您參考.我們是美國 Pentagon  *區(qū) 的總代理商.

目前報價 約
Pentagon QIII max(0.3um) USD ex-work
Pentagon QIII Ultra(0.1miron)  USD ex-work
若要換算成RMB含  17%  （含進(jìn)口關(guān)稅,運(yùn)費保險,17% 增值稅 及相關(guān)進(jìn)口費用）
正式報價 以 詳細(xì)報價單為主

QIII Max /Ultra更新功能：
1. 新的取樣模式增加準(zhǔn)確度
2. 7" 800X480大觸控螢?zāi)?(QIII+ 6"觸控螢?zāi)?
3. 改善取樣Probe插座.易拔插與更換
4. 二個使用者可換電池插座.可熱拔插 (原廠標(biāo)配2顆電池.充電器選配)
5. 可利用USB下載資料
6. QIII Ultra 可量測到0.1Micron
以下為QIII Max &QIII Ultra 詳細(xì)粒徑分布：
QIII Max QIII Ultra
0.3um 0.1um
0.5um 0.2um
1.0um 0.3um
3.0um 0.5um
5.0um 1.0um
10.0um 5.0um

適合使用單位:
u      適合客戶群:  包裝材料廠商: 如包裝材, 無塵紙,.....等
u      藥廠設(shè)備機(jī)臺裝表面清潔驗證: 理瓶區(qū),灌裝機(jī), 分裝機(jī), 藥廠包裝材料廠商: 如包裝材,....

無菌醫(yī)療機(jī)械初包裝潔凈度 T/CAMDI 009.1-2020  微粒汙染試驗方法 氣體吹脫法
u       半導(dǎo)體黃光, 蝕刻制程, 零件清洗商,設(shè)備清潔維護(hù), 光電廠, 玻璃基板廠等
u        對曝光機(jī); 顯影機(jī) ,蝕刻, 黃光 及偏光板貼附機(jī)臺效果顯著
u         Capture filter 能收集particles 由EDX 或FTIR分析particle 成分。
u         適合單位 : PVD, CVD, Photo, Ion Plant, YE, QA, QC ,  Microntation , Etch, Diffusion..

QIII+  , QIII ultra, QIII max, QIII LS,
QIII ST,  QIII SM,  QIII SX,

涂裝車間“潔凈度新標(biāo)準(zhǔn) — ISO14644-9

產(chǎn)品規(guī)格︰ 表面潔凈度, 表面微粒密度驗證,表面微粒子密度分析儀(表面清潔驗證)及產(chǎn)品資料,
表面微粒子密度分析計數(shù)器
目臺X電; 聯(lián)X電...等 皆選用此機(jī)型
提升良率; 確認(rèn)wiper擦拭方式及機(jī)臺保養(yǎng)是否達(dá)到清潔的效果
注意事項：
應(yīng)用: IEST-CC-1246D
美國Pentagon Technologies針對從submicron至eep submicron (0.18, 0.13..) 的Production機(jī)臺, 建立了特別的PM procedure可降低50% Test Wafer的消耗量及增加OEF(Overall Equipment Effectiveness), 其應(yīng)用于各種Thin Film( PVD, CVD..), Etching and Diffusion Equipments. 以及工作臺面積臺表面潔凈度..等的驗證. 此已為目前機(jī)臺維護(hù)作業(yè)時的標(biāo)準(zhǔn)工具之一.以及搭配MetOne Particle Counter對Mini-environment中量測particle, TRH, DP, velocity..的監(jiān)視系統(tǒng)可幫助Module equipment, process engineer/manager了解contamination issue.
Pentagon Technologies 亦針對Fab整體的contamination可提供詳細(xì)的偵測及評估(曾在TSMC, UMC,ADM fab 25…)進(jìn)而提高OFE (Overall Fab Effectiveness), 這可提供QA人員非常advanced的幫助。

產(chǎn)品優(yōu)點︰ 適合使用單位: IEST-CC-1246D, ISO14644-9,
1.適合客戶群: 半導(dǎo)體黃光, 蝕刻制程, 零件清洗商,設(shè)備清潔維護(hù), 光電廠, 玻璃基板廠等
2.Capture filter 能收集particles .由EDX 或FTIR分析particle 成分。
3.適合單位 : PVD, CVD, Photo, Ion Plant, YE, QA, QC , Microntation , Etch, Diffusion..
4.對曝光機(jī); 顯影機(jī) ,蝕刻, 黃光 及偏光板貼附機(jī)臺效果顯著
QIII+ , QIII ultra, QIII max, QIII LS,
QIII ST, QIII SM, QIII SX,
無菌醫(yī)療機(jī)械初包裝潔凈度
T/CAMDI 009.1-2020
微粒汙染試驗方法 氣體吹脫法
涂裝車間“潔凈度新標(biāo)準(zhǔn) — ISO14644-9

主要市場︰ 半導(dǎo)體黃光, 蝕刻制程, 零件清洗商,設(shè)備清潔維護(hù), 光電廠, 玻璃基板廠等