納米二氧化硅高速分散機,管線式二氧化硅高速分散設(shè)備,中試型二氧化硅分散機
顆粒細(xì)化到納米級后,其表面積累了大量的正、負(fù)電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當(dāng)降至1nm時,表面原子比例gao達(dá)90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于gao度活化狀態(tài),導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很gao的化學(xué)活性,表現(xiàn)出強烈的表面效應(yīng),很容易發(fā)生聚集而達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài),從而團聚發(fā)生
分散方式
液體中粉體(含納米材料)的分散主要是靠剪切力的作用。納米材料在液體體系中的分散,一般是采用下述分散方法來達(dá)到分散效果。
◆ 球磨分散: 通過球磨機中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用,使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎,同時使混合物在球的空隙內(nèi)受到高度湍動混合作用而被均勻地分散。
◆ 砂磨分散: 砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質(zhì)是用微細(xì)的珠或砂。砂磨機可連續(xù)進(jìn)料,納米粉體的預(yù)混合漿通過圓筒時,在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用,使得納米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的漿離開砂粒研磨區(qū)通過出口篩,溢流排出,出口篩可擋住砂粒,并使其回到筒中。通過球磨機和砂磨機分散能取得較好的分散效果及物料細(xì)度,但球磨機和砂磨機同樣無法避免處理效率低,能耗高的缺點。
◆ 高剪切分散機: 高剪切分散機的核心部件是定子/轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu),轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應(yīng)帶來強勁的動能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械剪切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝的條件下,瞬間均勻精細(xì)地分散,經(jīng)過高頻的循環(huán)往復(fù),zui終得到穩(wěn)定的gao品質(zhì)產(chǎn)品。與三輥機、球磨機、砂磨機相比,高剪切分散機具有效率高、能耗低等顯著you點,是分散工藝的。
高剪切均質(zhì)分散機 | 標(biāo)準(zhǔn)流量(H2O) | 輸出轉(zhuǎn)速 | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 | 馬達(dá)功率 | 進(jìn)出口尺寸 | 型號 | l/h | rpm | m/s | kW |
| ERS 2000/4 | 300-1,000 | 14000 | 40 | 2.2 | DN25/DN15 | ERS 2000/5 | 1,000-1.5000 | 10,500 | 40 | 7.5 | DN40 /DN 32 | ERS 2000/10 | 3,000 | 7,300 | 40 | 15 | DN50 / DN50 | ERS 2000/20 | 8,000 | 4,900 | 40 | 37 | DN80 /DN 65 | ERS 2000/30 | 20,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150 /DN 125 | ERS 2000/50 | 40,000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200 /DN 150 |
|
|
|
|
|
|
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。 2 處理量取決于物料的粘度,稠度和#終產(chǎn)品的要求。 3 參數(shù)內(nèi)的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不同,正確的參數(shù)yi提供的實物為準(zhǔn)。
納米二氧化硅高速分散機,管線式二氧化硅高速分散設(shè)備,中試型二氧化硅分散機 |