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復(fù)方磺胺嘧啶混懸液口服液膠體磨 |
關(guān)鍵詞:復(fù)方磺胺嘧啶混懸液 口服液膠體磨 混懸口服液膠體磨 醫(yī)藥膠體磨 |
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公司名稱:上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司 |
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詳細(xì)說(shuō)明 |
復(fù)方磺胺嘧啶混懸液口服液膠體磨 ,口服混懸液膠體磨,醫(yī)藥高速膠體磨,磺胺嘧啶、甲氧芐啶高速膠體磨是 過(guò)定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)da的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有xiao地乳化、分散和粉碎,da到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。 指將難溶性的固體組分,以極細(xì)小的微粒高度分散在分散介質(zhì)中,所形成的一種高懸浮、可流動(dòng)、具有一定粘度的非均相分散體系 分散性是指活性組分粒子懸浮于分散介質(zhì)中保持分散成微粒個(gè)體粒子的能力。分散性與懸浮性有密切關(guān)系。分散性好,一般懸浮性就好 影響分散性的主要因素是活性組分和分散劑的種類和用量 活性組分粒子有足夠的細(xì)度,活性組分粒子越大,越易加速沉降,破壞分散性 活性組分粒子越小,粒子表面的自由能就越大,越易受范德華引力的作用,相互吸引發(fā)生團(tuán)聚現(xiàn)象而加速沉降,因而也降低了懸浮性 要提高活性組分粒子在懸浮液中的分散性,除了要保證足夠的細(xì)度外,重要的是克服團(tuán)聚現(xiàn)象,主要辦法是加入分散劑。 根據(jù)一些行業(yè)的te殊要求, IKN 在CM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)了一款CMS2000X速膠體磨,轉(zhuǎn)子的線速度可以da到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒徑分布更小。 chaoX速膠體磨的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場(chǎng)合下,它用于高粘度的場(chǎng)合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。 CMS2000的線速度很高,剪切間隙fei常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款X速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度da到3bei以上,X大的轉(zhuǎn)速可以da到14000RPM。所以可以da到更好的分散濕磨效果。
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)jun級(jí)
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。 2 處理量取決于物料的粘度,稠度和#終產(chǎn)品的要求。 3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,bi須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。 復(fù)方磺胺嘧啶混懸液口服液膠體磨 ,口服混懸液膠體磨,醫(yī)藥高速膠體磨,磺胺嘧啶、甲氧芐啶高速膠體磨是 過(guò)定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)da的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有xiao地乳化、分散和粉碎,da到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。 |
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