納米二氧化硅高速分散機,管線式二氧化硅高速分散設備,中試型二氧化硅分散機
顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當降至1nm時,表面原子比例gao達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于gao度活化狀態,導致表面原子配位數不足和高表面能。納米顆粒具有很gao的化學活性,表現出強烈的表面效應,很容易發生聚集而達到穩定狀態,從而團聚發生
分散方式
液體中粉體(含納米材料)的分散主要是靠剪切力的作用。納米材料在液體體系中的分散,一般是采用下述分散方法來達到分散效果。
◆ 球磨分散: 通過球磨機中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用,使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎,同時使混合物在球的空隙內受到高度湍動混合作用而被均勻地分散。
◆ 砂磨分散: 砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質是用微細的珠或砂。砂磨機可連續進料,納米粉體的預混合漿通過圓筒時,在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用,使得納米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的漿離開砂粒研磨區通過出口篩,溢流排出,出口篩可擋住砂粒,并使其回到筒中。通過球磨機和砂磨機分散能取得較好的分散效果及物料細度,但球磨機和砂磨機同樣無法避免處理效率低,能耗高的缺點。
◆ 高剪切分散機: 高剪切分散機的核心部件是定子/轉子結構,轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來強勁的動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械剪切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝的條件下,瞬間均勻精細地分散,經過高頻的循環往復,zui終得到穩定的gao品質產品。與三輥機、球磨機、砂磨機相比,高剪切分散機具有效率高、能耗低等顯著you點,是分散工藝的。
高剪切均質分散機 | 標準流量(H2O) | 輸出轉速 | 標準線速度 | 馬達功率 | 進出口尺寸 | 型號 | l/h | rpm | m/s | kW |
| ERS 2000/4 | 300-1,000 | 14000 | 40 | 2.2 | DN25/DN15 | ERS 2000/5 | 1,000-1.5000 | 10,500 | 40 | 7.5 | DN40 /DN 32 | ERS 2000/10 | 3,000 | 7,300 | 40 | 15 | DN50 / DN50 | ERS 2000/20 | 8,000 | 4,900 | 40 | 37 | DN80 /DN 65 | ERS 2000/30 | 20,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150 /DN 125 | ERS 2000/50 | 40,000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200 /DN 150 |
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1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。 2 處理量取決于物料的粘度,稠度和#終產品的要求。 3 參數內的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。4 本表的數據因技術改動,定制而不同,正確的參數yi提供的實物為準。
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