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上海依肯混懸液研磨分散均質乳化設備 |
關鍵詞:混懸液研磨分散乳化機 混懸液分散機 混懸液如何制備 醫藥混懸液設備 |
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公司名稱:上海依肯機械設備有限公司 |
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混懸液研磨分散均質乳化設備介紹技術參數
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混懸液研磨分散均質乳化設備介紹使用說明
分散性是指活性組分粒子懸浮于分散介質中保持分散成微粒個體粒子的能力。分散性與懸浮性有密切關系。分散性好,一般懸浮性就好 影響分散性的主要因素是活性組分和分散劑的種類和用量 – 活性組分粒子有足夠的細度,活性組分粒子越大,越易加速沉降,破壞分散性 – 活性組分粒子越小,粒子表面的自由能就越大,越易受范德華引力的作用,相互吸引發生團聚現象而加速沉降,因而也降低了懸浮性 – 要提高活性組分粒子在懸浮液中的分散性,除了要保證足夠的細度外,重要的是克服團聚現象,主要辦法是加入分散劑以及使用高轉速的分散設備。
醫藥混懸液(如阿莫西林混懸液、鋁鎂加混懸液等)可制備至1-10微米粒度;疫苗可至300nm以下;注射劑可過9號針頭 該設備廣泛應用于醫藥、新材料、化工、食品領域,詳詢上海依肯 工程師 膠體磨 膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。
CM2000系列膠體磨是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。CM2000膠體磨的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。膠體磨的定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。 依肯公司另外一項獨特的創新,就是錐體磨CMO2000系列,它的設計使其功能在原有的CM2000的基礎上又進了一步。由于這項創新,CMO2000能夠濕磨和研磨,產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調節,從而可以得到*的研磨參數。
研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成,并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和*后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。
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