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公司名稱：上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
會(huì)員級(jí)別：免費(fèi)會(huì)員

納米混懸液破碎真空膠體磨,微米混懸液膠體磨，高剪切制劑膠體磨，高濃度醫(yī)藥膠體磨，醫(yī)藥級(jí)無(wú)殘留膠體磨可在線，可循環(huán)，轉(zhuǎn)速高，線速度大，耗時(shí)短，環(huán)保無(wú)殘留。

效果：比如兩種液體物料反應(yīng)生成固體顆粒，通過(guò)分別通入腔體，兩種物料接觸時(shí)被剪切成微滴，均勻混合后反應(yīng)生成的粒子大小均勻，并且粒徑很小。

納米混懸液是以表面活性劑或(和)高分子聚合物為穩(wěn)定劑，將藥物顆粒分
散在水中，通過(guò)自組裝技術(shù)或者破碎技術(shù)制備的一種亞微膠體分散系。與其他的
納米制劑相比，納米混懸制劑不需要任何載體材料，僅需要少量穩(wěn)定劑即可實(shí)現(xiàn)大量藥物納米化，具有載藥量高、粒徑小、比表面積大、對(duì)生物膜粘附性強(qiáng)、不易被清除、能夠提高難溶性藥物的生物利用度等優(yōu)勢(shì)。
納米混懸液常用的制備方法有多種，其中，以將藥物顆粒由大到小的破碎技
術(shù)(如研磨、高壓均質(zhì)、微射流等)zui為常用。在破碎前，一般先將藥物、穩(wěn)定
劑分散/溶解于水相，即對(duì)藥物和穩(wěn)定劑進(jìn)行前處理。然而，分散過(guò)程中強(qiáng)烈的
攪拌、剪切作用會(huì)使一些藥物、穩(wěn)定劑產(chǎn)生大量的泡沫，且泡沫會(huì)在破碎過(guò)程(研磨、高壓均質(zhì)、微射流等)中增多，進(jìn)而阻礙破碎過(guò)程的進(jìn)行。

納米混懸液破碎真空膠體磨通過(guò)皮帶對(duì)設(shè)備進(jìn)行加速的。納米混懸液在ikn真空均質(zhì)機(jī)負(fù)壓條件下，經(jīng)高速剪切或快速攪拌，將藥物混懸于水相A，再將容器與大氣連通，使體系壓力恢復(fù)正常，得混懸液B。其設(shè)備采用的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)是立式分體結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應(yīng)的皮帶，一般的人員可以操作。

納米混懸液破碎真空膠體磨是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高ke技產(chǎn)品。

第yi級(jí)由具有經(jīng)細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)線制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

ikn上海依肯膠體磨與國(guó)nei膠體磨部分對(duì)比分析：

設(shè)備結(jié)構(gòu)：國(guó)nei膠體磨設(shè)備的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)為三道磨碎區(qū)，一級(jí)為粗磨碎區(qū)，二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū)，三級(jí)為超微磨碎區(qū)，溝槽是直線，同級(jí)的溝槽深度一樣

上海IKN設(shè)備的設(shè)備結(jié)構(gòu)為三道磨碎區(qū)，一級(jí)為粗磨碎區(qū)，二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū)，三級(jí)為超微磨碎區(qū)，雖然都是三級(jí)結(jié)構(gòu)，但是他們的設(shè)計(jì)不同理念不同，形狀及齒列的結(jié)構(gòu)，溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺，配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉(zhuǎn)子/定子，具有良好的粉碎效果，耐磨及耐腐蝕。

zui大線速度：國(guó)nei膠體磨設(shè)備能達(dá)到的zui大線速度大約在10-15M/S

                     在相同直徑磨頭下，上海IKN設(shè)備線速度可達(dá)

V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S

V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S

zui大作用力：國(guó)nei膠體磨作用力大約在14293-215440 S-1

上海IKN設(shè)備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

而對(duì)CMO模塊頭，磨頭的間歇G理論可以無(wú)線小，但是由于高速的運(yùn)轉(zhuǎn)，造成軸的振動(dòng)，需要一定的間歇，作用力可以無(wú)線大，但實(shí)際上比膠體磨要好。這是粉碎研磨的zhong要因素，相當(dāng)于國(guó)nei膠體磨的2-3倍。

納米混懸液破碎真空膠體磨,微米混懸液膠體磨，高剪切制劑膠體磨，高濃度醫(yī)藥膠體磨，醫(yī)藥級(jí)無(wú)殘留膠體磨