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公司名稱：上海依肯機械設備有限公司
會員級別：免費會員

納米混懸液破碎真空膠體磨,微米混懸液膠體磨，高剪切制劑膠體磨，高濃度醫藥膠體磨，醫藥級無殘留膠體磨可在線，可循環，轉速高，線速度大，耗時短，環保無殘留。

效果：比如兩種液體物料反應生成固體顆粒，通過分別通入腔體，兩種物料接觸時被剪切成微滴，均勻混合后反應生成的粒子大小均勻，并且粒徑很小。

納米混懸液是以表面活性劑或(和)高分子聚合物為穩定劑，將藥物顆粒分
散在水中，通過自組裝技術或者破碎技術制備的一種亞微膠體分散系。與其他的
納米制劑相比，納米混懸制劑不需要任何載體材料，僅需要少量穩定劑即可實現大量藥物納米化，具有載藥量高、粒徑小、比表面積大、對生物膜粘附性強、不易被清除、能夠提高難溶性藥物的生物利用度等優勢。
納米混懸液常用的制備方法有多種，其中，以將藥物顆粒由大到小的破碎技
術(如研磨、高壓均質、微射流等)zui為常用。在破碎前，一般先將藥物、穩定
劑分散/溶解于水相，即對藥物和穩定劑進行前處理。然而，分散過程中強烈的
攪拌、剪切作用會使一些藥物、穩定劑產生大量的泡沫，且泡沫會在破碎過程(研磨、高壓均質、微射流等)中增多，進而阻礙破碎過程的進行。

納米混懸液破碎真空膠體磨通過皮帶對設備進行加速的。納米混懸液在ikn真空均質機負壓條件下，經高速剪切或快速攪拌，將藥物混懸于水相A，再將容器與大氣連通，使體系壓力恢復正常，得混懸液B。其設備采用的結構設計是立式分體結構，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應的皮帶，一般的人員可以操作。

納米混懸液破碎真空膠體磨是由錐體磨,分散機組合而成的高ke技產品。

第yi級由具有經細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無線制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

ikn上海依肯膠體磨與國nei膠體磨部分對比分析：

設備結構：國nei膠體磨設備的結構設計為三道磨碎區，一級為粗磨碎區，二級為細磨碎區，三級為超微磨碎區，溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣

上海IKN設備的設備結構為三道磨碎區，一級為粗磨碎區，二級為細磨碎區，三級為超微磨碎區，雖然都是三級結構，但是他們的設計不同理念不同，形狀及齒列的結構，溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺，配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉子/定子，具有良好的粉碎效果，耐磨及耐腐蝕。

zui大線速度：國nei膠體磨設備能達到的zui大線速度大約在10-15M/S

                     在相同直徑磨頭下，上海IKN設備線速度可達

V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S

V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S

zui大作用力：國nei膠體磨作用力大約在14293-215440 S-1

上海IKN設備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

而對CMO模塊頭，磨頭的間歇G理論可以無線小，但是由于高速的運轉，造成軸的振動，需要一定的間歇，作用力可以無線大，但實際上比膠體磨要好。這是粉碎研磨的zhong要因素，相當于國nei膠體磨的2-3倍。

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