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公司名稱：上海依肯機械設(shè)備有限公司
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實驗室高速納米研磨機，小型實驗室研磨機，科研用納米研磨機，多功能研磨機，高效研磨機，小體積可控溫研磨機，變頻調(diào)速科研研磨機

采用研磨機制備細微化混懸液/助劑/藥液等，需要研究不同的研磨工藝參數(shù)對顆粒粒徑或分散液穩(wěn)定性的影響。實驗室在進行基礎(chǔ)性研究工作時，需要有一套適合實驗室使用的設(shè)備進行理論或規(guī)律研究。然而，采用大型設(shè)備或小型砂磨機都不適合研究工作，有諸多弊端，比如購置設(shè)備的成本高，通用性差，浪費材料，從而限制了對各種參數(shù)的規(guī)律探索。

依肯的研磨設(shè)備在轉(zhuǎn)速和剪切速度上遠高出同lei研磨機4-5倍，作用效果更加顯zhu；設(shè)備材質(zhì)上采用316L環(huán)保合金材質(zhì)，符合食品醫(yī)藥衛(wèi)生GMP機FDA生產(chǎn)要求；內(nèi)部suo有配件均耐得住設(shè)備的高運轉(zhuǎn)，使用壽命長久；采用變頻調(diào)速，可靈活應(yīng)用于研究制備新產(chǎn)品及放大生產(chǎn)；依肯設(shè)備可以保證小試實驗的結(jié)果在同等參數(shù)、環(huán)境下放大到中試及工業(yè)化中的效果是一樣的，只需線性放大物料參數(shù)即可。

（小型實驗室研發(fā)制研磨機 電機處用防護罩加蓋，以防灰塵及其他物品掉入電機，影響設(shè)備使用及保障制藥衛(wèi)生；機身采用316L環(huán)保合金，設(shè)備可通液體介質(zhì)（水、油、液相介質(zhì)等）加熱或冷卻；高經(jīng)度的設(shè)備內(nèi)表面光潔度，保障制藥衛(wèi)生，適用于GMP車間，復(fù)合FDA要求。）

（中試型真空剪切啞膜機，適用于中試生產(chǎn)，無jun，無殘留，內(nèi)置高速刮邊攪拌機，可采用間歇式/連續(xù)式生產(chǎn)方式，生產(chǎn)過程中溫度可控，設(shè)備效率快，效果好，靈活性高，可根據(jù)需求改裝成膠體磨、乳化機、分散機、混合機等）

實驗室高速納米研磨機由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，同時，可將電機能量更有效地轉(zhuǎn)化為尺寸減小力，從而在粉末研磨和精細化學(xué)粉碎方面ling先于其他同行業(yè)設(shè)備。被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

IKN研磨分散機可在制藥，食品和精細化工行業(yè)中實現(xiàn)均勻的粒度分布和解聚集分散，幫助能夠減少或規(guī)避資本支出，同時提供改進的成品。IKN研磨分散機采用了二級處理結(jié)構(gòu)，第yi級采用了高剪切研磨分散機的磨頭模塊，第二級采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊。第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF，（2P剪切力zui弱，為粗齒，8SF剪切力zui強，為超細齒）且定轉(zhuǎn)子經(jīng)密度都達到了guo際領(lǐng)xian水平。IKN研磨分散機已通過數(shù)千種應(yīng)用進行了改進，可提供可靠的可擴展性，可重復(fù)性和性能。我們zui新的設(shè)計融合了許多創(chuàng)新，提供更多應(yīng)用多功能性，更易于清潔和維護。

球磨機/砂磨機：鋯珠易損，引入雜質(zhì)，更換維修成本高；

國內(nèi)膠體磨/研磨機/分散機：轉(zhuǎn)速普遍2930rpm，不超過3000rpm，作用力弱，粉碎研磨細度不夠，漿料穩(wěn)定性差；

德國IKN研磨分散機（改進型膠體磨/改進型分散機）：轉(zhuǎn)速范圍9000rpm-14000rpm-21000rpm，剪切力，研磨力，分散力更強，粒徑更小，分布范圍更窄，漿料穩(wěn)定性更好。產(chǎn)生均勻的尺寸減小率并產(chǎn)生窄的，一致的和可重復(fù)的粒度分布。

CMSD 2000系列分散均質(zhì)型研磨機設(shè)備選型表

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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