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MKZ-T4B微波真空高溫爐 |
關鍵詞:微波真空高溫爐 真空高溫爐 高溫爐 |
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公司名稱:青島邁可威微波設備有限公司 |
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詳細說明 |
設備名稱 MKZ-T4B微波真空高溫爐 適用范圍 真空與氣氛狀態(tài)下,陶瓷材料的合成與燒結(jié);無機或金屬材料的燒結(jié),熱處理,分體煅燒;無氧或者氣體保護狀態(tài)下,有機質(zhì)的熱解碳化;真空干燥,濃縮,熱固化,熱處理;運用氧氣氣氛環(huán)境,實現(xiàn)化學分析中的灰化處理。 MKZ-T4B微波真空高溫爐通用功能 1、采用不銹鋼真空箱體設計,既能承擔負壓,又可減少反應氣氛的腐蝕 2、允許氣氛環(huán)境:空氣、氮氣、氬氣、氧氣等多種氣體 3、適合不含水的高溫加熱,真空度可達-0.099Mpa(青島海拔高度測得數(shù)據(jù)) 4、進口紅外測試儀,可以不接觸測試物料溫度,避免微波場干擾 5、高溫加熱區(qū)容積:8L,約200×200×200mm(寬×深×高) 6、根據(jù)物料特性,*高溫度可達到1600℃,長時間連續(xù)工作溫度100~1450℃ 7、采用PLC自動控制,溫度和功率均智能可控,液晶對話界面 8、內(nèi)置高溫換熱器,適合高溫氣體排除 9、懸臂門,多層防護,杜絕微波泄漏和氣體密封 10、門體多重連鎖結(jié)構(gòu),開門斷電,保護操作人員,微波泄漏量符合國標 規(guī)格參數(shù)
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